膜厚: 1 – 15um
應用: 電鍍、金屬沉積、TSV、RIE 蝕刻
相容光阻:
KL NPR 是一種酚醛樹脂(novolac)負型光阻，被設計用於電鍍、金屬沉積、TSV 和 RIE 蝕刻。它具有高達 20 µm 的單塗層膜厚度，並具有垂直側壁和高縱橫比。KL NPR 具有熱穩定性，可承受高達 130⁰C 的溫度而不會造成輪廓變形。
膜厚: 2 – 10um
應用: 化合物半導體、LED
相容光阻: AZ® nLOF™ 2020, AZ® nLOF™ 2035, AZ® nLOF™ 2070
APOL-LO 3200 系列是可形成倒斜角的進階負型光阻，適用於剝離成形製程(Lift-Off)。可客製化調整倒斜角角度。
膜厚: 2 – 100um
應用: MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
相容光阻: SU-8
HARE SQ™ 是一種環氧樹脂負型光阻，專為 MEMS、微流道、微機械加工和其他永久性微電子結構的應用而設計。 HARE SQ™ 對 NUV、i-line 和broadband有光敏感度。 薄膜厚度為 2 至 200 微米。用於永久性應用，包括 MEMS、微陣列、VSCEL、波導、天線、感測器、微流道、PDMS 成型、像素牆、流體通道、噴墨噴嘴等。
