DisCharge 是一種先進的水基抗電荷劑,適用在非導電基材上進行電子束微影 (EBL),以防止電荷累積在電絕緣基板上。可直接將 DisCharge 塗佈在電子束光阻上以形成導電膜,來有效地耗散電子以防止電荷積累。DisChage是水性的,可以很容易用水或 IPA 輕鬆去除,並且在 EBL 曝光後無殘留。
DisCharge有多種濃度可供選擇,以便更好控制所需的薄膜厚度及薄層電阻。 DisCharge 的標準濃度適用於大多數的應用,並在 1000 rpm 的塗佈速度下提供 40 nm 的薄膜厚度。DisCharge可兼容廣泛的電子束光阻,包含PMMA、HSQ、CSAR 62、ZEP 520A、SML 和 mr-PosEBR等。
- 有效消散電荷,適用於廣泛的電子束光阻 (PMMA, HSQ, mr-PosEBR, CSAR 62, ZEP
520A, SML)
- 在絕緣基板上提高電子束直寫圖形轉移的可靠性 (SiO2, fused silica, quartz, PDMS等基板)
- 水基配方具有優異的濕潤效果
- 旋塗後即可使用
- 使用純水或IPA輕鬆清洗,無殘留物
- 在學術研究或工業應用上,具價格競爭性
- 高度穩定性永久帶電非聚合物,常溫下保存期2年