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永久性Epoxy光阻
(Permanent Epoxy Photoresist)

環氧樹脂(Epoxy)負型光阻是藉由化學放大 (chemical amplify) 的光化學反應成型,因而所需的曝光劑量可大幅減少,非常適用於厚膜光阻製程。固化後的Epoxy光阻具有極佳的耐熱性、化學穩定性、機械穩定性、附著性及抗腐蝕能力。使其非常適合製造永久結構,例如像素壁、流體通道、噴嘴、微陣列和間隔壁。

SQ系列 永久性Epoxy負型光阻

膜厚: 2 – 100um
應用: MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
相容光阻: SU-8

SQ系列是SU-8環氧樹脂的負型光阻,專為聚合物MEMS、微流體、微加工和微電子設計。它針對 2 至 100 微米的厚膜應用進行了最佳化。 SU-8 環氧光阻可產生具有優異的熱穩定性的清晰影像,這對於厚膜應用至關重要。 SQ 系列的特點是厚膜的垂直側壁,非常適合永久結構應用,包括 MEMS、微陣列、VSCEL、波導、天線、感測器、微流道、PDMS 成型、像素牆、流體通道、噴墨噴嘴等。

SQ QuickDry系列 永久性Epoxy負型光阻

膜厚: 2 – 150um
應用: MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
相容光阻: SU-8 2000 

SQ QuickDry 是一種環氧基負性光阻,專為聚合物 MEMS、微流體、微機械加工和各種微電子應用而設計。該系統針對厚度達 200 微米的薄膜和厚膜進行了最佳化,並使用更快乾燥的溶劑,可最大限度地縮短處理時間,從而提高產量。

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