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永久性Epoxy光阻
(Permanent Epoxy Photoresist)

環氧樹脂(Epoxy)負型光阻是藉由化學放大 (chemical amplify) 的光化學反應成型,因而所需的曝光劑量可大幅減少,非常適用於厚膜光阻製程。固化後的Epoxy光阻具有極佳的耐熱性、化學穩定性、機械穩定性、附著性及抗腐蝕能力。使其非常適合製造永久結構,例如像素壁、流體通道、噴嘴、微陣列和間隔壁。

HARE SQ系列 永久性Epoxy負型光阻

膜厚: 2 – 100um
應用: MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
相容光阻: SU-8

HARE SQ™ 是一種環氧樹脂負型光阻,專為 MEMS、微流道、微機械加工和其他永久性微電子結構的應用而設計。 HARE SQ™ 對 NUV、i-line 和broadband有光敏感度。 薄膜厚度為 2 至 200 微米。用於永久性應用,包括 MEMS、微陣列、VSCEL、波導、天線、感測器、微流道、PDMS 成型、像素牆、流體通道、噴墨噴嘴等。

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