膜厚: 0.1 – 2.7um
應用: 電子束直寫微影、多層T-gate製造、X 射線 LIGA、晶圓減薄保護塗層
相容光阻: 950 PMMA、495 PMMA、MMA(8.5)MAA

HARP™ PMMA光阻專為高解析度直寫電子束光阻而設計。 當與 HARP-C™ 共聚物結合使用時，HARP 多層系統是 T-gate 製造的理想選擇。 HARP™ PMMA 對各種基材具有出色的附著力，可用作為晶圓減薄的保護塗層、鍵結黏合劑和犧牲層。